![]() |
Московский государственный университет лесаИНСТИТУТ СИСТЕМНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ ЛЕСА |
||||
|
<<Назад
ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА НА ОСНОВЕ СВЧ-ЭЦР РАЗРЯДА Установка предназначена для производства изделий микроэлектроники нового поколения - с субмикронными размерами элементов. Изменяемая конфигурация магнитного поля позволяет получать на одной установке параметры плазмы, необходимые для различных циклов плазменной технологии: очистки и подготовки поверхности подложки, травления и напыления тонких пленок.Автоматизированная система диагностики, включающая зондовые, оптические, масс-спектрометрические измерения, позволяет контролировать процесс обработки. Вакуумная камера состоит из источника плазмы (диаметр 15 см, длина 25 см) и плазмохимического реактора (диаметр 35 см, длина 60 см). На установке получена плазма с концентрацией более 1011 см -3 на расстоянии 30 см от источника с однородностью 5% на диаметре до 200 мм и энергией ионов не более 15 эВ, что позволяет эффективно обрабатывать подложки диаметром до 200 мм. Разработана технология металлизации субмикронных тренчей и сквозных отверстий с аспектным отношеним 1-3 с использованием ионизации распыленных атомов металла. Степень ионизации распыленных атомов алюминия достигает 30%, вклад потока ионов алюминия в полный поток металла на подложку до 75%. Скорость напыления достигает 100 нм/с. Руководитель Полуэктов Николай Павлович, тел. 588-57-24 |
Для контактов, тел/факс: |